首先要了解硅溶胶抛光液的特点属性。二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经水解法离子、交换法制备成的一种高纯度低金属离子型产品。在水性环境中容易形成一种离子网状结构，而一脱离了水份，表面积迅速凝结形成结晶块，所以只要保持水分基本上是不会出现结晶现象。在实际CMP抛光工艺当中硅溶胶抛光液会一直在研磨盘转动、流动，结晶情况较少。
因此氧化硅抛光液存储环境要在阴凉避光处温度5-30℃之间。并且抛磨工作完成后及时清洗处理盘面和抛光垫，这样就不容易在抛光垫和机台上残留二氧化硅结晶。
吉致电子科技根据二氧化硅磨料的特性，研发了非晶态纳米二氧化硅抛光液，氧化硅精抛液等，可以长时间保持非结晶状态。使用过程中保持稳定的胶体状态，分散均匀(不结块)，腐蚀速率稳定，达到镜面抛光效果。
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